二、專利侵權(quán)構(gòu)成要件

 1. 侵權(quán)的一般定義與基本要件（35 U.S.C. § 271）

從理論上看，美國專利侵權(quán)是指：未經(jīng)專利權(quán)人許可，在美國境內(nèi)實施專利權(quán)所專有的行為，使專利權(quán)人對其受保護發(fā)明的排他性控制受到實質(zhì)性侵害。

 在§ 271(a) 的字面框架下，一般需要滿足三個基礎(chǔ)要件：

存在合法有效且在權(quán)利期間內(nèi)的專利；

 被控主體在美國境內(nèi)實施了法律列舉的行為：制造（make）、使用（use）、許諾銷售（offer to sell）、銷售（sell）或進口（import）；

被控產(chǎn)品或方法在技術(shù)特征上落入至少一項權(quán)利要求（claim）的保護范圍（逐要素比對規(guī)則，every element rule）。

因此，理論分析中通常會將侵權(quán)構(gòu)成拆解為三個層次：

權(quán)利存在與范圍 → 行為類型與地域要件 → 技術(shù)方案比對

 2. 直接侵權(quán)（Direct Infringement）

直接侵權(quán)對應(yīng)35 U.S.C. § 271(a)，是美國專利侵權(quán)理論中的基礎(chǔ)形態(tài)。

（1）行為要件：任何人在未經(jīng)許可、無合法抗辯的情況下，在美國境內(nèi)對受專利保護的發(fā)明實施以下任一行為，即構(gòu)成直接侵權(quán)行為：

制造（making）；

使用（using）；

許諾銷售（offering to sell）；

銷售（selling）；

進口（importing）。

（2）技術(shù)比對要件：

字面侵權(quán)（literal infringement）：被控方案包含權(quán)利要求的每一個要素，少一個要素即不落入該項權(quán)利要求的字面保護范圍。

等同原則（doctrine of equivalents）：即便未逐字滿足要素，只要在功能、方式、結(jié)果上與權(quán)利要求要素實質(zhì)相同，且不受審查歷史禁止反言（prosecution history estoppel）限制，仍可能構(gòu)成侵權(quán)。

在理論論述中，直接侵權(quán)通常被視為所有其他責任形態(tài)（誘導、共同侵權(quán)）的前提：沒有一個可識別的直接侵權(quán)行為，間接責任通常無從附著。

3. 間接侵權(quán)（Indirect Infringement）

間接侵權(quán)一般包括誘導侵權(quán)與共同/貢獻侵權(quán)，是美國專利侵權(quán)理論中用來應(yīng)對復(fù)雜供應(yīng)鏈與多方參與場景的重要工具。

（1）誘導侵權(quán)（Inducement，§ 271(b)）

條文規(guī)定：“Whoever actively induces infringement of a patent shall be liable as an infringer.”從理論上看，構(gòu)成誘導侵權(quán)通常需要：

存在一項可識別的直接侵權(quán)行為（他人實施了完整的侵權(quán)）；

被誘導人實施侵權(quán)行為的因果聯(lián)系；

誘導者具有促成侵權(quán)的主觀意圖（knowledge + intent），即明知有關(guān)專利且有意促成侵權(quán)結(jié)果。

誘導侵權(quán)常見于：

母公司通過技術(shù)指導與營銷宣傳推動子公司或代理侵權(quán)；

提供使用說明書、操作指南，引導用戶以侵權(quán)方式使用產(chǎn)品的場景。

（2）共同/貢獻侵權(quán)（Contributory Infringement，§ 271(c)）

條文大意為：若一方提供構(gòu)成專利發(fā)明重要組成部分、且該部件并無實質(zhì)性非侵權(quán)用途，則其在明知情況下對他人侵權(quán)承擔責任。

理論構(gòu)成要素包括：

提供的組件屬于構(gòu)成權(quán)利要求的重要部分，而非邊緣性配件（not a staple article or commodity of commerce）；

該組件缺乏實質(zhì)性非侵權(quán)用途（no substantial noninfringing use）；

提供者知悉該組件被用來實施特定專利的侵權(quán)。

在復(fù)雜供應(yīng)鏈或者模塊化產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，共同/貢獻侵權(quán)理論確保專利法不僅能追責終端實施者，也能追責在背后“供料”“供關(guān)鍵技術(shù)模塊”的參與方。

來源：律界小楷  免責聲明：版權(quán)歸原創(chuàng)所有僅供學習參考之用，禁止用于商業(yè)用途，部分文章推送時未能及時與原作者取得聯(lián)系，若來源標錯誤侵犯到您的權(quán)益煩請告知我們將立即刪除。