產品詳情

CME-HTPC高溫高壓熱催化評價系統為一套用于完成催化劑活性評價及篩選的反應儀器，適用于氣體、液體或氣液同時進料；氣固、液固、氣液固反應，能夠實現溫度、氣相流量、液相流量的自動控制，反應溫度能夠實現程序控制升溫（線性升溫），通過程序升溫設定實驗溫度的升溫時間和保溫時間，配合GC等分析儀器對不同壓力、溫度下的實驗產物進行階段性在線檢測分析。

系統可以應用于催化劑評價、多通道固定床反應、高通量催化劑評價、實驗室反應、催化裂化試驗、煤化工、加氫脫氫試驗、蒸餾吸籌抽提、聚合、環保、釜式反應、費托合成、甲烷化、二氧化碳綜合利用、生物質熱解等。

CME-HTPC高溫高壓熱催化評價系統，框架采用工業鋁型材結構。裝置包括：進料系統、恒壓、穩流系統、預熱系統、反應系統、產物收集系統、PLC控制系統。系統共有三路氣相進料和一路液相進料；氣相物料和液相物料經過預熱爐預熱氣化混合均勻后，進入反應器進行反應；反應產物經冷凝器冷凝后進入氣液分離器進行分離，氣相產物經背壓閥排空或進入色譜進行分析，液相產物在氣液分離器底部沉積儲存，根據需要針閥或調節閥進行取樣或排空。

系統優勢：

1、系統中的減壓系統，可與反應氣鋼瓶直接連接，管路配有比例卸荷閥、高精度壓力表及壓力傳感器，所有溫度控制點、壓力監測點均配有超溫、超壓報警，自動聯鎖保護。

2、進料系統，通入不同的氣體時，可在流量系數表選擇或輸入對應的氣體流量系數，實現氣體種類的多樣性和準確性。

3、夾層控溫標氣模塊，耐壓管體內甲苯、乙醇等反應液體，通入反應氣或惰性氣體進入模塊，將ppm級的有效氣體帶入反應器中，通過水浴循環水機控制模塊溫度進而控制氣體的濃度；從而大大降低實驗成本，解決標氣貴的難題。

4、恒壓系統，配合低壓、高壓雙壓力系統使用，根據實驗壓力選擇對應的壓力系統，為催化劑提供穩定**的、穩定的實驗環境。

5、系統控制全部采用PLC軟件自動化控制，實時監控反應過程，自動化處理數據，并提供全套實驗方案。屏幕采用工控觸屏PLC，可以根據需求隨時更改使用方案。中科微能提供氣相色譜儀、液相色譜儀、電化學工作站、TPR、TPD、SPV、TPV、拉曼等測試分析儀器。

6、系統集進料系統、恒壓系統、穩流系統、預熱系統、反應系統、產物收集系統、PLC控制系統于一體。

技術參數：

本系統為一套高溫高壓催化劑評價裝置，可用于催化劑的分析、評價及篩選，研究工藝過程，探索適合工藝參數，進而指導工業生產、節約生產成本、提高工作效率。

本系統采用管式反應系統，實現高、低壓反應分別完成，兩套管式反應器可以通用或互換，反應器采用310S不銹鋼材質（最gao可耐溫度1150℃），可在高溫高壓環境下長期使用。管式反應系統采用大熱容量反應爐，可滿足實驗過程中的高溫反應，最gao溫度可達800℃。加熱爐外裝飾采用多孔隔離板設計，滿足爐內高溫的同時，保證了爐外溫度小于60℃。

1）氣相操作流量：

一路氣相流量：CH4，0~30mL/min，氣體流量控制精度：±1%；

二路氣相流量：O2，0~30mL/min，氣體流量控制精度：±1%；

三路氣相流量：N2，0~50mL/min，氣體流量控制精度：±1%；

質量流量計最da耐受壓力10MPa；

催化劑評價系統壓力的要求：

常壓試驗：壓力范圍：常壓；配合溫度：30-700℃；

高壓試驗：壓力范圍：常壓-6MPa ；配合溫度：30-300℃。

2）液相操作流量：

一路液相流量：0~10mL/min；計量泵壓力20MPa，流量準確度 <±0.5%。

3）高、低壓一體管式反應器：

設計溫度：800℃；設計壓力：3MPa；材質：不銹鋼310S；

填充量：內徑8mm，0.1-5ml，填充量可根據需求填充高度；

反應器的恒溫區50-100mm；通過溫度傳感器進行實時監測。

另配：同等規格的石英玻璃管2只，用于低壓實驗。

4）汽化混合器：設計溫度：600℃；設計壓力：10MPa；材質：不銹鋼316L；容積：150mL；底部是雙盤管預熱器，上部是設有折流板的混合罐，兩部分都置在預熱爐內。出口操作溫度：室溫~300℃可調。

5）冷凝器：設計壓力：10MPa；材質：不銹鋼316L；容積：350mL；

盤管式冷凝器，留有兩個水嘴，用于通水管連接冷凝液或自來水。

6）氣液分離器：設計壓力：10MPa；材質：不銹鋼316L；內設除泡板，氣體從頂部排出，液體在底部沉積。

7）夾層控溫標氣模塊：（用于鼓泡易揮發液體，如甲苯、乙醇等，配置污染氣體，實現催化反應）

常使用溫度范圍：-10℃~95°C（需配合控溫循環水機）；

設計壓力：10MPa；材質：不銹鋼316L；

帶水浴夾套；頂部有進氣口、出氣口、測溫口和加液口，底部有排液口。頂部氣路采用兩位四通閥無死體積切換。

8）框架結構：采用工業30*30鋁型材。

9）精度控制要求：溫度控制精度：±1℃；壓力控制精度：±0.1Mpa；氣體流量控制精度：±1%；液體流量控制精度：±1%。

實物圖：

操作界面圖：

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