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單晶圓濕法清洗機(jī)
※ 控制模式: 手動(dòng)控制模式 自動(dòng)控制模式;※ 設(shè)備形式: 室內(nèi)放置型;※ 制程應(yīng)用: 蝕刻(微蝕刻)制程;去光阻清洗制程;去蠟(膠)清洗制程;精密清洗制程;光罩去光阻清洗制程;※ 適用對(duì)象:2-8inch藍(lán)寶石晶片;2-6inch砷化鎵晶片;2-8inch碳化硅晶片;其它襯底晶片;1Pcs/ Batch ;※ 選配模塊:腐蝕液恒溫系統(tǒng);腐蝕液循環(huán)過濾系統(tǒng);超(兆)聲系統(tǒng);全自動(dòng)供液系統(tǒng);更全面的全自動(dòng)烘干系統(tǒng);消防系統(tǒng);可結(jié)合客戶端通訊協(xié)定資料儲(chǔ)存、CIM系統(tǒng)、資料分析儲(chǔ)存建立管理;※ 機(jī)械臂裝置:Robot的工藝路徑種類:N種(設(shè)備出廠前載入PLC內(nèi));機(jī)械手傳送定位精度:≤0.3mm;機(jī)械臂走向:前后位移一對(duì)一;轉(zhuǎn)向、前后、左右、上下位移一對(duì)四;全程轉(zhuǎn)向左右、前后、上下位移一對(duì)多槽等;設(shè)備制造:北京華林嘉業(yè)科技有限公司(CGB)
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