生產型 高真空磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機（PVD-1000B系列）該設備采用磁控濺射、離子輔助、反應濺射的工藝方法，在工件表面制備各種薄膜材料。該設備是集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設備。
可以制備單層膜、多層膜、摻雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等。設備結構及性能參數真空室為圓柱形、上開蓋、前開門結構；使用材料均為奧氏體不銹鋼304/321，表面電化學拋光處理，無微觀毛刺，不會藏污納垢。磁控濺射靶為矩形，沿真空室壁的圓周排列，可調整靶面與工件的距離。樣品架為圓筒形，樣品裝載數量大；旋轉運動為齒輪驅動式，動力直連輸入，經齒輪驅動樣品臺轉盤旋轉，運行平穩，無抖動；密封可靠，故障率低。加熱系統采用紅外加熱器，對真空環境無污染，加熱均勻；采用具有PID功能的智能溫控儀控制加熱功率。電氣控制及操作系統工作穩定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。系統安全保護設置齊全，設備啟動后可實行無人運行。設備重點性能參數
| 極限真空度 | 8X10-5Pa |
| 工作背景真空度 | 8X10-4Pa |
| 工作背景真空到達時間 | ＜40min（空氣濕度低于45％；開門時間＜30min條件下從大氣抽到工作真空度時間) |
| 樣品加熱溫度 | 室溫~300℃ |
| 樣品架公轉速度 | 3~10r/min連續可調 |
| 片內膜層均勻性 | ＜5% |
| 片間膜層均勻性 | ＜5% |
| 磁控靶數量 | 3靶（可根據用戶工藝擴展靶位） |
| 真空清洗離子靶 | 1靶 |
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