高純貴金屬鈀(Pd) ?科研實驗材料 ?濺射鍍膜 蒸發鍍膜 半導體 純度99.999% ?尺寸可定制 提供背板綁定服務

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貴金屬靶產品總述：

????隨著靶材在磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等產業的發展，我們加大在稀貴金屬靶材研發和制備方面的投入力度，通過原料控制、真空感應熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結、熱等靜壓、放電等離子體燒結等不同工藝,?并采用嚴格的質量控制過程，我們能夠制備多種靶材并能一直保持著批量供貨。

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貴金屬磁控濺射沉積鍍膜鈀靶材Palladium (Pd) Targets

規格尺寸：

注：具體尺寸請聯系銷售

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貴金屬鈀（Palladium, Pd）

?一、高純磁控濺射貴金屬鈀（Palladium, Pd）鍍膜靶材、鈀粒及鈀板材料，以其獨特的物理特性和廣泛的應用優勢，在高科技產業中占據了舉足輕重的地位。

我司深耕靶材領域十年，專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產單材質靶材如下：

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二、材料特性：

高純鈀靶材、鈀粒及鈀板均具備極高的純度，通常達到99.99%甚至更高（即4N或更高），這意味著它們在制造過程中幾乎不含雜質，確保了鍍膜過程的純凈性和最終產品的**性能。鈀的密度為12.023 g/cm3，使得鈀靶材在濺射過程中能夠穩定地釋放原子，形成致密且均勻的薄膜。同時，鈀的熔點高達1554°C，這一特性賦予了鈀靶材在高溫環境下的穩定性和耐用性，為高溫鍍膜工藝提供了有力支持。

三、行業應用：

1、高純鈀靶材、鈀粒及鈀板材料展現出了多方面的優勢。首先，其高純度特性確保了鍍膜過程中雜質引入的減少，從而提高了薄膜的純凈度和性能穩定性。這對于需要高精度和高可靠性的電子器件、光學元件及太陽能電池等領域來說至關重要。例如，在平面顯示領域，高純鈀靶材被廣泛應用于制備透明導電膜，使觸摸屏和液晶顯示器的顯示效果更加清晰明亮；在太陽能電池領域，鈀靶材則用于導電層和反射層的制備，提高了光電轉換效率和入射光的利用率。

2、鈀靶材、鈀粒及鈀板材料還因其良好的導電性、光反射性和耐腐蝕性能而受到青睞。這些特性使得鈀材在制備導電薄膜、反射膜及耐腐蝕涂層等方面具有獨特優勢。例如，在半導體行業中，鈀靶材可用于制備導電層和隔離層，確保電導率的穩定性和高致密性，避免雜質的進入；在光學元器件制造中，鈀靶材則因其優異的反射性能而被用于反射鏡的制備。

3、更為重要的是，高純鈀靶材、鈀粒及鈀板材料還具備可定制性，能夠根據客戶需求調整元素比例、規格和純度。這種靈活性使得鈀材在更多特定應用場合中展現出無限可能。例如，在科研實驗中，研究人員可以根據實驗需求定制鈀靶材的規格和純度，以獲得理想的實驗結果；在工業生產中，企業也可以根據產品特性選擇合適的鈀材種類和規格，以提高生產效率和產品質量。

綜上所述，高純磁控濺射貴金屬鈀鍍膜靶材、鈀粒及鈀板材料以其獨特的物理特性和廣泛的應用優勢，在高科技產業中發揮著重要作用。隨著技術的不斷進步和應用領域的不斷拓展，鈀材的未來發展前景將更加廣闊。

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貴金屬靶產品總述：

隨著靶材在磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等產業的發展，我們加大在稀貴金屬靶材研發和制備方面的投入力度，通過原料控制、真空感應熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結、熱等靜壓、放電等離子體燒結等不同工藝,?并采用嚴格的質量控制過程，我們能夠制備多種靶材并能一直保持著批量供貨。

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稀貴重金屬名稱：鉑靶、鈀靶、銀靶、銥靶、銠靶

牌號規格：Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1

用途：主要用于磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等領域。

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產 品 詳 情:? 該材料主要用于儀器、儀表導電環及其他用途，如電容式變送器輸油管等。

產品名稱：高純鉑Platinum (Pt)濺射靶材及鉑合金管材鉑坩堝

牌號規格：Pt1、Pt2、PtRh10

用途備注：還應用于儀器、儀表導電環及其他用途，如電容式變送器輸油管等

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鉑濺射靶材 (Platinum-Pt)，鉑坩堝器皿

規格尺寸：

注：具體尺寸請聯系銷售。

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貴金屬鉑Platinum (Pt)

一、高純貴金屬鉑Platinum (Pt)濺射鍍膜靶材及鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料，作為現代高科技產業中的關鍵材料，以其**的物理特性和廣泛的應用優勢，在多個領域發揮著不可替代的作用。

我司深耕靶材領域十年，專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產稀貴金屬材料如下：

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二、材料特性：

1、首先，從材料特性來看，高純鉑靶材的純度通常達到99.99%以上（即4N或更高），甚至可達99.999%（5N），這意味著其雜質含量極低，確保了鍍膜過程的純凈性和最終產品的**性能。鉑的密度為21.45g/cm3，使得鉑靶材在濺射過程中能夠穩定地釋放原子，形成致密且均勻的薄膜。同時，鉑的熔點和沸點分別高達1773℃和3827℃，這一特性賦予了鉑靶材在高溫環境下的**穩定性和耐腐蝕性，為高溫鍍膜工藝提供了堅實保障。

2、鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料則結合了鉑的優異性能與合金的多元特性，通過調整合金成分，可以進一步優化材料的物理和化學性能，滿足特定應用需求。這些顆粒材料在蒸發鍍膜過程中，能夠均勻且穩定地蒸發，形成高質量的薄膜，提升產品的整體性能。

三、在行業應用：

1、高純鉑靶材及鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料展現出了廣泛的應用優勢。在太陽能電池領域，鉑靶材被用于制備高效電極，其高導電性和化學穩定性確保了電池的高效穩定運行。在平板顯示器制造中，鉑靶材則用于制作透明導電膜，提高了顯示器的對比度和色彩準確性。此外，鉑靶材還廣泛應用于金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）等領域，為制備高質量薄膜和涂層提供了重要支持。

2、鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料在蒸發鍍膜工藝中同樣表現出色。它們不僅具有鉑的高熔點和耐腐蝕性，還通過合金化提高了材料的機械性能和加工性能。這使得鉑合金管坩堝能夠在高溫、高真空環境下穩定工作，為蒸發鍍膜過程提供可靠的容器支持。同時，鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料還具有良好的蒸發性能和成膜質量，能夠滿足高精度、高要求的鍍膜需求。

綜上所述，高純貴金屬鉑濺射鍍膜靶材及鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料以其**的物理特性和廣泛的應用優勢，在高科技產業中發揮著重要作用。隨著技術的不斷進步和應用領域的不斷拓展，這些材料將繼續為提升產品質量、推動產業升級貢獻重要力量。

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高純度稀有金屬錸靶材 磁控濺射靶材?Rhenium (Re)?錸鎢錸鉬合金靶板??PVD鍍膜材料

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產 品 詳 情

錸是一種銀色金屬，由于錸的價格較高，因此在應用上受到了限制。可做為磁控濺射使用，常見的有錸板、錸坩鍋、錸顆粒、錸絲材；錸的合金有鎢錸合金（W-Re）、鉬錸合金(Mo-Re)。由于鎢錸、鉬錸合金有著優異的高溫強度和高溫塑性，為此基材制作的各種結構件，加熱器，異型零件被廣泛的應用于航天航空，原子能，超高溫合金，半導體磁控濺射，高溫熱場等業領域。

錸濺射靶材?Rhenium (Re)

注：其它尺寸可根據客戶要求制作。具體尺寸請聯系銷售。

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貴金屬銠（Rhodium, Rh）

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一、高純貴金屬銠（Rhodium, Rh）濺射靶材、銠環及銠顆粒作為蒸發鍍膜材料，以其**的物理特性和廣泛的應用優勢，在高科技產業中占據著重要地位。

我司深耕靶材領域十年，專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產稀貴金屬材料如下：

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二、材料特性：

1、高純銠濺射靶材的純度通常達到99.95%以上，甚至可達99.999%的極高純度，這意味著其雜質含量極低，能夠確保鍍膜過程的純凈性和最終產品的**性能。銠的密度為12.41g/cm3，這使得銠靶材在濺射過程中能夠穩定地釋放原子，形成致密且均勻的薄膜。此外，銠的熔點高達1966°C，沸點更是達到3695°C至3727°C之間，這一特性賦予了銠靶材在高溫環境下的**穩定性和耐腐蝕性，為高溫鍍膜工藝提供了堅實保障。

2、銠環和銠顆粒作為蒸發鍍膜材料，同樣具備高純度和優異的物理性能。它們能夠在蒸發過程中均勻且穩定地釋放銠原子，形成高質量的薄膜，滿足高精度、高要求的鍍膜需求。銠的高反射率和良好的導電性，使得其在光學和電子領域具有廣泛的應用潛力。

三、行業應用：

1、高純銠濺射靶材、銠環及銠顆粒蒸發鍍膜材料展現出了顯著的優勢。在電子工業中，銠靶材被廣泛應用于制備高精度電阻、傳感器以及高頻電子設備的關鍵部件。其高純度和穩定性確保了電子元件的高精度和長壽命。同時，銠的高反射率也使其成為制作高反射率反射鏡和光學元件的理想材料。

2、在鍍膜行業中，銠環和銠顆粒蒸發鍍膜材料被用于制備高性能的鍍膜層，如汽車玻璃、建筑玻璃以及光學信息存儲介質等。銠鍍層不僅色澤堅固、不易磨損，而且反光效果好，能夠顯著提升產品的外觀和性能。此外，銠鍍層還具有良好的耐腐蝕性和化學穩定性，能夠在惡劣環境下保持長久的性能。

3、銠靶材還在化工生產中發揮著重要作用。它可以用于制備催化劑，如銠基氧化物催化劑，在有機合成和石油化工反應中展現出優異的催化性能。這些催化劑能夠加速反應速率、提高產率和選擇性，為化工行業的發展提供了有力支持。

綜上所述，高純貴金屬銠濺射靶材、銠環及銠顆粒蒸發鍍膜材料以其**的物理特性和廣泛的應用優勢，在高科技產業中發揮著重要作用。隨著技術的不斷進步和應用領域的不斷拓展，這些材料將繼續為提升產品質量、推動產業升級貢獻重要力量。

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高純度貴金屬?釕（Ru）磁控濺射鍍膜沉積靶材PVD鍍膜材料蒸發顆粒?科研實驗 尺寸定制

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產 品 詳 情

???貴金屬釕薄膜由于其獨特的物理、化學和催化性能，被廣泛用于電子、電氣和催化領域，例如垂直磁記錄媒介中的中間層、大規模集成電路中的銅擴散勢壘等。本公司具有完善的靶材加工、質量控制和殘靶回收技術，能夠制備出滿足客戶不同需求的高品質大尺寸釕(Ru)濺射靶材。

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?貴金屬釕（Ruthenium, Ru）

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一、高純貴金屬釕（Ruthenium, Ru）作為磁控濺射鍍膜沉積靶材及PVD鍍膜材料、蒸發顆粒材料，以其獨特的物理和化學性質，在多個高科技領域展現出顯著的應用優勢。

我司深耕靶材領域十年，專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產稀貴金屬材料如下：

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二、材料特性：

1、釕靶材以其高純度（如3N5級別）著稱，確保了鍍膜過程的純凈度和最終產品的優異性能。其密度達到12.37g/cm3，使得靶材在濺射過程中能夠穩定且高效地釋放釕原子。釕的熔點高達2334°C，這一特性使得釕靶材能夠在極端高溫環境下保持結構穩定，適用于高溫、高壓和腐蝕環境中的鍍膜需求。

三、市場應用領域：

1、在磁控濺射鍍膜技術中，高純釕靶材發揮著關鍵作用。該技術通過高能離子轟擊靶材表面，使釕原子蒸發或濺射，最終沉積在基板表面形成致密、均勻的薄膜。這種薄膜不僅具有高耐腐蝕性，還具備優異的導電性，為電子器件、光學元器件等產品的性能提升提供了重要保障。例如，在平面顯示領域，高純度釕薄膜可用于制作透明導電電極，提高顯示屏的透光性和觸摸靈敏度；在光學元器件領域，釕薄膜則可用于制造反射鏡、濾波器等，提升光學系統的整體性能。

2、釕蒸發顆粒材料也因其高純度、高密度和高熔點而備受青睞。在蒸發鍍膜工藝中，釕顆粒被加熱至高溫并蒸發，隨后沉積在基板表面形成薄膜。這種工藝同樣能夠制備出高質量、高性能的釕薄膜，廣泛應用于太陽能電池、節能玻璃等領域。例如，在太陽能電池領域，釕薄膜可用作背反射層，提高光電轉換效率；在節能玻璃領域，釕薄膜則能賦予玻璃良好的隔熱性能和可控光透過率，降低建筑能耗。

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釕靶材和蒸發顆粒材料的行業應用優勢不僅體現在其優異的物理和化學性能上，還體現在其廣泛的適用性和靈活性上。無論是科學研究還是工業生產，釕靶材和蒸發顆粒材料都能提供可靠、高效的解決方案。同時，隨著科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展，釕靶材和蒸發顆粒材料的市場需求也將持續增長，為相關產業的發展注入新的動力。

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