設備簡介：
PECVD（等離子增強化學氣相沉積）技術是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜生長的一種制備技術，主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積；高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理，可以實現高溫燒結，適用于大多數材料的熱處理以及熔煉工藝，整體采用國際**制造工藝，并且從美學藝術角度出發，根據人體安全的角度進行設計。它采用PLC控制，觸摸屏操作。
主要特點：
1、高溫燒結。
2、控制穩定可靠，操作方便，安全防護措施完善。
3、采用**的PID自學習模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。
4、爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料，保溫效果更好，節能降耗。
5、具有物聯網功能（WIFI），可通過手機、電腦遠程對設備進行監控，操作。
6、數據存儲功能，可保存燒結的重要參數，時長達30天之久（每天開機8小時）。
7、配方功能，可預存配方20條以上。
8、聯網功能，通過RJ45接口，采用TCP/IP協議，可以讓系統與上位機相連（上位機需安裝相應軟件）。
服務支持：一年有限保修，提供終身支持。
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