設備簡介：
雙溫區的PECVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發生器、可定位的獨立滑動式燒結爐、高精度質量流量混合系統、穩定防反油真空系統。此款PECVD可用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜。
主要特點：
1. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染；
2. 上開啟式結構，方便觀察試樣；
3. 產品采用全自動控制方式，觸摸屏，數字化顯示；
4. 可通過爐體滑動來達到快速升溫和快速降溫的效果；
5. 穩定的射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質量。
服務支持：一年有限保修，提供終身支持。
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