設備簡介：
? 均溫氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規(guī)模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。

設備特點：

?1.溫場均勻，恒溫區(qū)長度及精度：300～1250mm? 800~1200℃±1℃

?2.具有強大的軟件功能，NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng)，用戶可以方便地修改工藝控制參數(shù)，并可隨時顯示各種工藝狀態(tài)；配有故障自診斷軟件；??3.程序可以實現(xiàn)手/自動工作，在停電或中途停機后，再次啟動可以根據(jù)工藝手動升溫，節(jié)省工藝時間；??4.具有多種工藝管路，可供用戶方便選擇；??5.冷端檢測環(huán)境溫度進行溫度補償，避免環(huán)境溫度變化，對爐膛溫度產生影響，避免層間干擾；?

?6.可存儲多組PID參數(shù)供系統(tǒng)運行調用功能，具有多點溫度補償?7.氣體流量采用數(shù)字化**控制，采用模擬信號閉環(huán)控制，強弱電分開，各種數(shù)據(jù)交互采用標準總線，提高抗干擾能力，保證數(shù)據(jù)安全；氣體打開具有緩啟動功能；??8.具有多種報警功能及安全保護功能；?9.恒溫區(qū)自動調整，串級控制，可準確控制反應管的實際工藝溫度；??10.壓力自動調整技術，將壓力參數(shù)引入晶體硅氧化工藝，有效減小了尾部排風對工藝的干擾，減小由排風引起的工藝波動。

服務支持：一年有限保修，提供終身支持。