設備簡介:
立式管式爐采用爐管垂直放置、爐膛加熱元件環形分布的結構設計,可應用于小型鋼件的淬火、退火、回火熱處理,以及立式CVD鍍膜等。設備可在氣氛狀態、真空狀態下運行,也可作為普通管式爐使用,適用于高校實驗室及科研院所等單位。
設備特點:
?1.采用高純硅鉬棒作為加熱元件,加熱元件均勻分布于爐膛周圍,保證溫度均勻性;
?2.高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,保溫效果優越,有效地降低了設備使用功耗;
?3.爐體采用雙層風冷結構工藝,有助于降低殼體的表面溫度;
?4.采用智能PID模糊溫度控制,7英寸觸摸屏集中操控,可直觀顯示“時間-溫度”曲線;
?5.采用一體式水冷法蘭,防止法蘭過熱損毀密封圈,充分保證設備密封性;
?6.使用自主研發的電磁吊置脫扣技術,實現對物料的快速淬火處理。
服務支持:一年有限保修,提供終身支持
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