TJ3/4/5/6英寸硬掩膜激光切割柔性掩膜版非標(biāo)加工來(lái)圖來(lái)樣
華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來(lái)制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報(bào)價(jià)。
掩膜版的應(yīng)用
每個(gè)芯片上的實(shí)際電路結(jié)構(gòu)是用掩模版和光刻技術(shù)制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預(yù)先噴到半導(dǎo)體表面。
掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的，因?yàn)樗麄儧Q定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來(lái)對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光 。
掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中，掩模版作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍）后投射在晶圓表面。為了區(qū)別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱為倍縮式掩模（reticle） 。
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