1.1主要用途Cchip-0019型紫外光刻機主要用于常規(guī)微型器件、結構的微細加工及微流體結構、MEMS、雙向可控硅、聲表面波器件、大功率整流器及石英晶體諧振器等特種器件、結構的雙面深度微細加工。此外，該設備還可作為相關實驗設備廣泛應用于高校及研究所開展微細加工工藝研究。
1.2 主要特點（1）結合**的CCD圖像對準技術、采用紫外LED平行光照明及手動對準工件臺的總體設計思路，結構新穎，整機性能優(yōu)越，曝光操作直觀、方便。
（2）掩模版取放倒置吸附、樣片取放采用推拉式基準平板、真空吸附的方式，方便快捷，工作效率高。
（3）新穎的高精度、多自由度掩模-樣片精密對準工件臺結構設計，使掩模-樣片的對準精度及速度得到極大提高。
|
序號 |
參數名稱 |
數值以及說明 |
|
1 |
曝光面積 |
110mm×110mm |
|
2 |
曝光波長 |
365nm |
|
3 |
分辨力 |
0.8um |
|
4 |
對準精度 |
±0.5um |
|
5 |
掩模尺寸 |
3英寸、4英寸、5英寸 |
|
6 |
樣片尺寸 |
2英寸、3英寸、4英寸，厚度0.1 mm—5 mm |
|
7 |
照明不均勻性 |
2% |
|
8 |
掩模相對于樣片運動行程 |
X:±5 mm Y:±5 mm q:±6° |
|
9 |
曝光光源 |
紫外LED，40mW |
|
10 |
曝光量設定 |
定時（***方式0.1～999.9任意設定） |
|
11 |
**膠厚 |
350 |
|
12 |
光源平行性 |
≤1.2° |
|
13 |
雙視場顯微鏡 |
0.5-4.5X |
免責聲明：當前頁為 光刻機Cchip-0019產品信息展示頁，該頁所展示的 光刻機Cchip-0019產品信息及價格等相關信息均有企業(yè)自行發(fā)布與提供， 光刻機Cchip-0019產品真實性、準確性、合法性由店鋪所有企業(yè)完全負責。世界工廠網對此不承擔任何保證責任，亦不涉及用戶間因交易而產生的法律關系及法律糾紛，糾紛由會員自行協商解決。
友情提醒：世界工廠網僅作為用戶尋找交易對象，就貨物和服務的交易進行協商，以及獲取各類與貿易相關的服務信息的渠道。為避免產生購買風險，建議您在購買相關產品前務必確認供應商資質及產品質量。過低的價格、夸張的描述、私人銀行賬戶等都有可能是虛假信息，請您謹慎對待，謹防欺詐，對于任何付款行為請您慎重抉擇。
投訴方式：fawu@gongchang.com是處理侵權投訴的專用郵箱，在您的合法權益受到侵害時，請將您真實身份信息及受到侵權的初步證據發(fā)送到該郵箱，我們會在5個工作日內給您答復，感謝您對世界工廠網的關注與支持！
(c)2008-2026 世界工廠網V3.6 All Rights Reserved 豫ICP備2024066506號
