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產(chǎn)品形態(tài):
鎢 / 鎢鈦 / 鎢硅靶材,形狀可定制
純度:鎢99.95%以上
密度:19.35g/cm3
表面狀態(tài):磨光或堿洗
純度:鎢(上至5N)/ 鎢鈦(上至4N5)/ 鎢硅(上至4N5)鎢靶材是一種以鎢為原料制成的材料,通常用于制造電子器件、真空鍍膜等。鎢靶材具有高純度、高密度、高硬度、耐高溫等特性,因此在許多領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用前景。
在電子器件制造中,鎢靶材可以用于制造電子管、晶體管、集成電路等。由于鎢靶材具有高純度、高密度等特性,可以保證電子器件的性能穩(wěn)定性和可靠性。
在真空鍍膜中,鎢靶材可以作為蒸發(fā)源,用于制造各種薄膜材料。由于鎢靶材具有高硬度、耐高溫等特性,可以保證薄膜材料的性能穩(wěn)定性和可靠性。
總之,鎢靶材是一種具有廣泛應(yīng)用前景的材料,未來隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展,鎢靶材的需求量也將會(huì)不斷增加。
注意:靶材的純度、密度、微觀結(jié)構(gòu)、內(nèi)部質(zhì)量、焊接質(zhì)量、外觀質(zhì)量和幾何尺寸等對(duì)鍍膜好壞有著重要的影響。
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