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上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRi 霍爾離子源 eH 400

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上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRi 霍爾離子源 eH 400
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企業(yè)信息
伯東企業(yè)（上海）有限公司
實(shí)名認(rèn)證 企業(yè)認(rèn)證
成立年份：
1995年
經(jīng)營(yíng)模式：
貿(mào)易商
企業(yè)類(lèi)型：
企業(yè)單位
主營(yíng)產(chǎn)品：
氦質(zhì)譜檢漏儀銷(xiāo)售維修,渦輪分子泵銷(xiāo)售維修,真空計(jì)銷(xiāo)售維修,高低溫測(cè)試機(jī),真空閥門(mén),水汽深冷泵,冷凍機(jī),質(zhì)譜分析儀,考夫曼離子源,旋片泵,羅茨泵,干泵
公司地址：
上海浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室
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電話：
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上海浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室
產(chǎn)品介紹
加工定制
：
否
型號(hào)
：
eH 400
有效期至
：
長(zhǎng)期有效
最后更新
：
2023-08-22 11:25
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霍爾離子源 eH 400

美國(guó) KRi 霍爾離子源 eH 400上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRi 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流 > 750 mA, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.KRi 霍爾離子源 eH 400 特性高離子束電流滿足沉積率的臨界到達(dá)比低離子能量通過(guò)避免高能離子對(duì)表面和界面的轟擊損傷而使產(chǎn)量更大化寬束, 發(fā)散離子束通過(guò)均勻地覆蓋沉積區(qū)從而增加每次加工零件數(shù)量來(lái)提高吞吐量堅(jiān)固耐用的模塊化結(jié)構(gòu)降低了備件耗材和維護(hù)時(shí)間, 減少維護(hù)成本和停機(jī)時(shí)間無(wú)柵網(wǎng), 緊湊設(shè)計(jì), 方便加裝, 提供離子輔助功能霍爾離子源 eh400KRi 霍爾離子源 eH 400 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

eH 400

陽(yáng)極

DC

陽(yáng)極電流

5A

離子束流

>750mA

陽(yáng)極電壓范圍

40-300V

離子能量范圍

25-300eV

陽(yáng)極功率

500W (輻射冷卻)

氣體

惰性氣體和反應(yīng)氣體

氣體流量

3-30 sccm

壓力

< 1 x 10-3 Torr

離子束流直徑

4cm Φ

離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

陰極中和器

沉浸式或非沉浸式

高度

3.0” (7.62cm)

直徑

3.7” (9.4cm)

KRi 霍爾離子源 eH 400 應(yīng)用領(lǐng)域:電子束蒸發(fā), 磁控濺射中的 IBAD 輔助鍍膜沉積前的預(yù)清潔類(lèi)金剛石碳涂層低能離子束蝕刻離子束濺射KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 典型案例:設(shè)備: 美國(guó)進(jìn)口 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)離子源型號(hào): EH 400應(yīng)用: IBAD 輔助鍍膜, 通過(guò)向生長(zhǎng)的薄膜中添加能量來(lái)增強(qiáng)分子動(dòng)力學(xué), 以增加表面和原子 / 分子的流動(dòng)性, 從而導(dǎo)致薄膜的致密化或通過(guò)向生長(zhǎng)薄膜中添加活性離子來(lái)增強(qiáng)薄膜化合物的化學(xué)轉(zhuǎn)化, 從而得到化學(xué)計(jì)量完整材料.離子源對(duì)工藝過(guò)程的優(yōu)化: 無(wú)需加熱襯底, 對(duì)溫度敏感材料進(jìn)行低溫處理, 簡(jiǎn)化反應(yīng)沉積.KRi 霍爾離子源 IBAD 輔助鍍膜

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專(zhuān) . 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源總代理.

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法定代表人
近藤聡（KONDO SATOSHI）
經(jīng)營(yíng)狀態(tài)
存續(xù)（在營(yíng)、開(kāi)業(yè)、在冊(cè)）
注冊(cè)資本
1550 萬(wàn)美元
實(shí)繳資本
統(tǒng)一社會(huì)信用代碼
913101156073328291
組織機(jī)構(gòu)代碼
607332829
企業(yè)注冊(cè)號(hào)
310115400032917
企業(yè)類(lèi)型
有限責(zé)任公司（外國(guó)法人獨(dú)資）
登記機(jī)關(guān)
自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)市場(chǎng)監(jiān)督管理局
成立日期
1995年12月01日
營(yíng)業(yè)期限
1995年12月01日---
核準(zhǔn)日期
2024年05日22日
注冊(cè)地址
中國(guó)（上海）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)基隆路89號(hào)10層1018-1020室
經(jīng)營(yíng)范圍
許可項(xiàng)目：危險(xiǎn)化學(xué)品經(jīng)營(yíng)。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)，具體經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目以相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)文件或許可證件為準(zhǔn)）一般項(xiàng)目：電子接插件、線束和印刷電路板、傳真機(jī)、復(fù)印機(jī)、照相機(jī)、掃描儀用石英玻璃、化學(xué)品（除危險(xiǎn)化學(xué)品、監(jiān)控化學(xué)品、民用爆炸物品、易制毒化學(xué)品）、化妝品、塑料、橡膠及其制品、木漿及其他纖維狀纖維素漿、紙及紙制品、陶瓷制品、紡織原料、玻璃及其制品、金屬材料及其制品、精密儀器、機(jī)械設(shè)備、音像設(shè)備及其零配件、光學(xué)攝影設(shè)備及其零配件、照明器具、計(jì)算機(jī)、軟件及輔助設(shè)備、電子元器件、電子產(chǎn)品及其零配件、集成電路芯片及其產(chǎn)品、半導(dǎo)體分立器件、半導(dǎo)體器件專(zhuān)用設(shè)備及其零配件的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣(mài)除外）及其相關(guān)配套服務(wù)；精密儀器、設(shè)備的維修；區(qū)內(nèi)倉(cāng)儲(chǔ)業(yè)務(wù)（除危險(xiǎn)品）；國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易、區(qū)內(nèi)企業(yè)間的貿(mào)易及區(qū)內(nèi)貿(mào)易代理；區(qū)內(nèi)商業(yè)性簡(jiǎn)單加工；區(qū)內(nèi)貿(mào)易咨詢(xún)服務(wù)；從事電子科技、信息科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)服務(wù)、技術(shù)咨詢(xún)、技術(shù)開(kāi)發(fā)、技術(shù)轉(zhuǎn)讓。（除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外，憑營(yíng)業(yè)執(zhí)照依法自主開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)）