牌號(hào)：R6500
密度(g/cm3)：1.77
硬度(肖氏)：HR 5/100:70
抗折強(qiáng)度(MPa)：50
抗壓強(qiáng)度(MPa)：120
彈性模量(GPa)：10.5
熱膨脹系數(shù) ：3.9
電阻率(μΩcm):14
熱導(dǎo)率W/(m?k)：80
進(jìn)口石墨R6500是適合于模具制造的通用牌號(hào)；EDM石墨R6500是一種各向同性細(xì)晶粒石墨,適用于一般加工。它具有高金屬切削率和強(qiáng)耐磨性的特性，價(jià)格實(shí)惠，并備有大型尺寸。
牌號(hào)：R6340
平均粒徑um(uin)：15（600）
體積密度g/cm：1.72
電阻率μΩcm：12
抗折強(qiáng)度Mpa：45
抗壓強(qiáng)度Mpa：90
熱膨脹系數(shù)20-200C(68-392F)10K：3.2
灰分ppm：≤200
灰分(純化,P30)1ppm：≤10
灰分(高純,P5)2ppm：≤2
進(jìn)口石墨R6340是適合于模具制造的通用牌號(hào)；EDM石墨R6340是一種各向同性細(xì)晶粒石墨,適用于一般加工。它具有高金屬切削率和強(qiáng)耐磨性的特性，價(jià)格實(shí)惠，并備有大型尺寸。
用于原子能工業(yè)和國(guó)防工業(yè):石墨具有良好的中子減速劑用于原子反應(yīng)堆中，鈾一石墨反應(yīng)堆是應(yīng)用較多的一種原子反應(yīng)堆。作為動(dòng)力用的原子能反應(yīng)堆中的減速材料應(yīng)當(dāng)具有高熔點(diǎn)，穩(wěn)定，耐腐蝕的性能，石墨完全可以滿足上述要求。作為原子反應(yīng)堆用的石墨純度要求很高，雜質(zhì)含量不應(yīng)超過(guò)幾十個(gè)PPM。特別是其中硼含量應(yīng)少于0.5PPM。在國(guó)防工業(yè)中還用石墨制造固體燃料的石墨噴嘴，石墨鼻錐，宇宙航行設(shè)備的零件，隔熱材料和防射線材料。
石墨爐原子吸收光譜法是一種運(yùn)用有石墨涂層的的熔爐，使樣本蒸發(fā)的光譜測(cè)定法。簡(jiǎn)而言之，這項(xiàng)技術(shù)是基于這樣一個(gè)事實(shí)，即自由原子可以吸收一定頻率的光和帶有特殊利益元素的波長(zhǎng)。在一定范圍內(nèi)，被吸收的光波可以直接與所要分析的的物體聯(lián)系起來(lái)。許多元素的自由原子可以用高溫從樣本中提取。在石墨爐原子吸收光譜法中，樣本儲(chǔ)存在有石墨或熱解碳涂層的小石墨立方體中，這個(gè)立方體將來(lái)可以通過(guò)加熱來(lái)使樣本蒸發(fā)和分解過(guò)程。我們可以根據(jù)已知的濃度來(lái)校正儀器，從而通過(guò)工作曲線來(lái)決定濃縮程度。和原子吸附相比，石墨爐主要有有以下優(yōu)勢(shì)：
對(duì)于許多元素來(lái)說(shuō)，石墨爐探測(cè)范圍可達(dá)十億分之一；
采用改良型設(shè)備，阻礙降至小；
通過(guò)原子吸收大量基質(zhì)，石墨爐可以探測(cè)絕大多數(shù)已知元素。
石墨具有較高的散射截面和極低的熱中子吸收截面，較高的散射截面用以慢化中子，低的吸收截面防止中子被吸收，使得核反應(yīng)堆能夠利用少量燃料達(dá)到臨界或正常運(yùn)行。
石墨是耐高溫材料，它的三相點(diǎn)，15MPa時(shí)為4024℃，因此不能采用熔化、鑄造、鍛造等熱加工方法制造而只能采用類(lèi)似粉末冶金的方法。它不像金屬那樣強(qiáng)度隨溫度而下降，而是略有增加，在2000℃以下應(yīng)用，不會(huì)出現(xiàn)問(wèn)題。
石墨有良好的導(dǎo)熱性能，在堆內(nèi)可以有效地降低溫度梯度，不致產(chǎn)生太大的熱應(yīng)力。
石墨化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定。除了高溫下的氧化、水蒸氣外，可以耐酸、堿、鹽的腐蝕，因而可以用作熔鹽核反應(yīng)堆和鈾鉍核反應(yīng)堆的堆芯構(gòu)件。
石墨抗輻照性能，能長(zhǎng)期在堆內(nèi)服役30～40年。
石墨可加工性好，可以加工成各種形狀的構(gòu)件。
石墨原料豐富，價(jià)格便宜，容易制成純度高、強(qiáng)度大、不同密度要求的各種核石墨，但石墨也有缺點(diǎn)，它是各向異性晶體結(jié)構(gòu)，成層狀分布，原子密集于a、b晶面，同層原子近距離為0.141nm，相互為共價(jià)結(jié)合，具有較強(qiáng)的結(jié)合力；而層距離為0.335nm，層間結(jié)合力為范德瓦爾力，結(jié)合力較弱。這種各向異性在石墨的物理、強(qiáng)度、輻照等行為中都會(huì)強(qiáng)烈地表現(xiàn)出來(lái)。
