強激光用電介質膜反射鏡 TFMHP

適用于高功率，脈沖Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準分子激光的光學系統的反射鏡。

?可以提供用于YAG激光器的，從基波（1064nm）到4次諧波（266nm）的反射鏡和Ar*F（193nm），Kr*F（248nm）的準分子激光用的

反射鏡。

?反射率高，經過多個反射鏡反射后，光量也不會衰減很多。

?使用吸收小的電介質膜，可以承受大功率激光的連續照射.

承接制造產品目錄之外的其他尺寸或波長特性的反射鏡。請利用客戶問

詢單。

?也可以在低散亂基板上鍍強激光用多層電介質膜。 

?激光損傷閾值根據ISO21254的200on1進行試驗。 

?備有保證鍍膜后面精度的反射鏡（HTFM）。 

注意

?使用前，請確認入射激光光束的能量密度不要超過激光損傷閾值。

?通過透鏡或凹面反射使激光光束變細后入射時，可能有能量密度超過激

光損傷閾值，反射鏡受破損的危險。

?入射光束的光量很大的時候，光束可能透過反射鏡（透過率1%以下）。請

務必在反射鏡的反面遮擋散亂光。

?紫外譜區的反射鏡有產生熒光的可能。對反射鏡熒光有疑問的客戶請至

營業部門咨詢。

?多層電介質膜因為入射光束的偏光狀態不同其反射率波長特性將會有改

變。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射譜區變窄。

?技術指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。

?在設計波長以外的波長區域使用時，反射率有可能降低。