無塵室烤箱，半導體專用無塵烤箱用于半導體制造中硅片、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門；HMDS無塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了膠的用量，提高膠與硅片的黏附性。
無塵烤箱 無塵車間烘箱 半導體潔凈烘箱的簡介
半導體專用無塵烤箱用于半導體制造中硅片、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門；HMDS無塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了膠的用量，提高膠與硅片的黏附性。
無塵烤箱 無塵車間烘箱 半導體潔凈烘箱的特點
溫控系統：采用進口溫度控制器，內置斜率設定、PID自整定、高溫上限報警、熱電偶失效指示等多種功能采用六通道巡回檢測，記錄儀，可將烤箱內實時環境溫度進行檢測打印；
軟件系統：控制系統采用三菱系列高速型邏輯控制器，可與現場總線聯機遠程操控；
無塵烤箱的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。
充氮系統：作用是在置換過程中，用氮氣來逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽，從而*終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛。主要由氮氣源、控制閥和噴頭組成。
| 型號/設備名稱 | HY-W6800絲印無塵烤箱/硅膠烤箱 | ||
| 內膽尺寸 | W1200×D1000×H1500mm | 外型尺寸 | W800×D650×H1500mm |
| 溫度范圍 | RT-250℃ | 升溫時長 | 15min(RT-150℃) |
| 溫度精確度 | ±3℃ | 運風方式 | 水平循環運風 |
| 外觀材質 | 冷軋板烤漆 | 內膽材質 | 201#不銹鋼 |
| 托盤材質 | 不銹鋼201#或304、316 | 托盤層數 | 2-15層選配 |
| 推車選材選型 | 不銹鋼車架/彩鍍千層架 | 車架層數 | 2-15層/30層 |
| 電壓 | 默認380V（可選220V） | 功率 | 12KW-18KW |
| 功能/裝置 | 漏電保護、缺相保護、過載保護、超溫保護、計時斷電、分時段烘烤 | ||
| 特性 | 真材實料、溫度精確均勻、快速加溫、**省電、性能穩定 | ||
| 適用產品/行業 | 線路板、硅膠橡膠、電子產品、玻璃面板、絲印移印、噴油烘干 | ||
| 備注 | 尺寸、溫度、材質、電壓可按客戶要求定制 | ||
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