等離子處理系統采用的是是干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。等離子清洗機清洗原理與其他清洗機的原理不同，當艙體里接近真空狀態時，開啟射頻電源，這時氣體分子電離，產生等離子體，并且伴隨輝光放電現象，等離子體在電場下加速，從而在電場作用下高速運動，對物體表面發生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。
真空等離子清洗機，等離子處理系統
等離子清洗不需要其他的原料，只要空氣、氧氣、氮氣等氣體就能夠滿足要求，使用方便而且沒有污染，同時比其他清洗機器更具有的優勢。等離子處理機不但可以進行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等離子體與物體表面進行化學反應能夠產生活性化學集團，應用范圍很廣，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，親水性等等很多方面。
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