Picosun等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統 PICOPLASMA
Picosun公司新型PICOPLASMA™等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統是基于**的自由離子遠程等離子源設計的，其性能已經得到世界范圍內的諸多**研究團隊的肯定。多種激發源（如氧、氫和氮等）配置能夠***大化拓展ALD的工藝范圍，尤其是低溫沉積金屬和金屬氮化物薄膜。由于遠程等離子源所產生的等離子體束流中離子的含量低，因此即使是***敏感的襯底，也不會出現等離子損傷，而等離子束流中含有高濃度的活性粒子，保證很快的生長速度。
PICOPLASMA™ 遠程等離子體系統技術參數
· 對襯底無等離子損傷· 導電材料不會產生短路現象· 無前驅源背擴散→ 等離子發生器無薄膜形成· 等離子體點火期間無壓力振蕩→ 無顆粒形成· 等離子體源與襯底之間無閘門閥→ 無顆粒形成· 等離子體源材料無刻蝕→ 金屬和氧化物薄膜低雜質· 簡單和快速服務并通過維護艙口改變腔室· 無硬件修改使熱ALD和等離子ALD工藝在同yi沉積腔室中進行成為可能
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