TRYMAX 等離子除膠機(jī)

型號(hào)：NEO系列

TRYMAX

亞科電子的合作伙伴Trymax公司于2003年在荷蘭成立，該公司主要提供半導(dǎo)體等離子清洗、去膠、活化設(shè)備。

Trymax目前擁有半自動(dòng)、全自動(dòng)系列設(shè)備供用戶選擇，目前已有上百臺(tái)設(shè)備安裝在世界各地，被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、微流體器件、SOI基片制造、**封裝、化合物半導(dǎo)體器件、功率器件和光電顯示等領(lǐng)域。

  一、設(shè)備工作原理

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，該狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

Trymax NEO Series就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，通過(guò)射頻/微波電源在一定的真空條件下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

  二、Trymax NEO Series 應(yīng)用

前道：Light Etching；Descum strip；PR Ashing；離子注入后，光刻后，鍍膜前等工藝過(guò)程； 后道/**封裝/3D IC：Descum Bumping；MEMS；Plasma Treatment；Wafer Cleaning等。

NEO3000產(chǎn)品系列是Trymax半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)**的NEO系列**等離子灰化和蝕刻產(chǎn)品的**成員之一。

它可以滿足**產(chǎn)量，適應(yīng)每個(gè)生產(chǎn)階段和預(yù)算。 NEO 3000系統(tǒng)可配置任何現(xiàn)有的Trymax NEO工藝模塊，并與直徑達(dá)300mm的基板兼容。小尺寸和模塊化設(shè)計(jì)可根據(jù)您的需要靈活配置。

?特征

 - zui大300毫米晶圓尺寸/基板尺寸

-2或3個(gè)SMIF裝載機(jī)

-5軸雙臂機(jī)器人處理

-4個(gè)不同的處理模塊：

?下游微波（2.45 GHz）

?射頻偏壓（13.56MHz）

?雙源（微波，射頻偏壓）

?DCP（RF偏置，直接耦合等離子）

 - 優(yōu)異的均勻性和可重復(fù)性

 - 機(jī)械吞吐量> 220wph

 - 緊湊的足跡

 - 非常低的擁有成本

 - 完全數(shù)字控制，Devicenet以太網(wǎng)