HERCULES??NIL ??Fully Integrated SmartNIL??UV-NIL Systems

HERCULES?NIL??完全集成的SmartNIL?UV-NIL系統

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EVG的HERCULES?NIL產品系列：

HERCULES?NIL完全集成的SmartNIL?UV-NIL系統，**200 mm

HERCULES?NIL完全模塊化和集成式SmartNIL?UV-NIL系統，**300 mm

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HERCULES?NIL完全集成的SmartNIL?UV-NIL系統，**200 mm；完全集成的納米壓印光刻解決方案，適用于大批量生產，具有EVG專有的SmartNIL?壓印技術

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HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟蹤解決方案，適用于**200 mm的晶圓，是EVG的NIL產品組合的**成員。 HERCULES NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。

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為了優化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟郵票的制造，這是大批量生產的基石，不需要額外的壓印郵票制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境，以確保**的缺陷率和**質量的原版復制。

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通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在全面積NIL設備解決方案中的領導地位。??*根據ISO 14644

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特征

批量生產最小40 nm *或更小的結構

結合了預處理（清潔/涂覆/烘烤/冷卻）和SmartNIL?

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離，可**程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時間最快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板

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HERCULES?NIL完全模塊化和集成式SmartNIL?UV-NIL系統，**300 mm

包含EVGSmartNIL?技術的完全模塊化平臺，可支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術

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生產應用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟蹤系統，在單個平臺上將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG的專有SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結合在一起，用于直徑**為300 mm的晶片。這是**個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統，可為客戶提供**的自由度來配置他們的系統，以**地滿足其生產需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。

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HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**進的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產，包括用于增強/虛擬現實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫學設備，納米光子學和等離激元學。

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特征

全自動UV-NIL壓印和低力剝離：最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產最小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

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技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）100至200毫米/ 200和300毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL?

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曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預處理模塊

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

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EVG?770???Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System

EVG?770???分步重復納米壓印光刻系統

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分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作

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技術數據

EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**50 mm x 50 mm的小模具到**300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括**的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。

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特征

高效的晶圓級光學微透鏡主制造，直至SmartNIL?的納米結構

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

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技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）100至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

**印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

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IQ Aligner???Automated UV Nanoimprint Lithography System

IQAligner????自動化紫外線納米壓印光刻系統

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用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統

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技術數據

IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關的材料專業知識。

EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放郵票的釋放機制。

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特征

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個獨立控制的Z軸，可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個獨立控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能

IQ對準器

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技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）150至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理

涂層：水坑點膠（可選）

迷你環境和氣候控制

可選的：

工作印章制作：支持的；