EVG?40NT 自動化測量系統
適用于鍵合和光刻的多功能，高精度計量
特征
EVG40 NT（獨立工具）和AVM（集成了HVM的模塊）能夠測量與光刻相關的參數，例如臨界尺寸以及鍵合對準精度。由于系統具有很高的測量精度，因此可以驗證是否符合嚴格的工藝規范并立即優化集成的工藝參數。
憑借其多種測量方法，EVG40 NT可以同時適應多種制造工藝，例如納米壓印光刻或晶圓間鍵合。
作為一個應用實例，EVG40 NT完善了EVG的產品范圍，以實現高精度對準晶圓鍵合，作為記錄工具，可以可靠地驗證EVG的GEMINI FB自動熔合的100 nm鍵合覆蓋精度。
特征
光刻和鍵合計量的多功能測量選項
粘接和光刻應用的對準驗證
上下顯微鏡用于多種測量方法
臨界尺寸（CD）測量
芯片對芯片對準驗證
多層厚度測量
垂直和水平方向的測量精度高
專門的校準程序可實現高通量
基于PC的測量和模式識別軟件可實現**可靠性
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