
去磷硅清洗設備主要功能是對去磷硅的清洗、干燥在同一臺設備上完成。設備型號:NXXD-0806;整機尺寸(參考):詳見圖紙;被清洗硅片尺寸:125*125*0.20mm / 156*156*0.20mm;產量 :1600片/小時(156×156×0.20mm);每批處理量:200片(156×156×0.20mm);節拍 :450秒;200片盒尺寸:600×395×205mm鋸齒型片盒;處理重量:40kg;一般用在工藝后,硅片保持濕潤,配上超聲能更好的去處顆粒。HF腐蝕后一般都配置OF而不配置QDR,主要是HF處理后硅片為疏水性,OF能更好的去處污染。進水閥門采用bypass形式;
設備制造:江蘇英思特半導體科技有限公司
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