遠源等離子濺射系統不同與射頻磁控濺射系統，它是通過靶材遠處產生高密度等離子體完成濺射的。等離子體經PLS出口的發射電磁線圈放大，并由匯聚線圈完成等離子方向的匯聚與控制，達到完全覆蓋靶材表面。靶面通過施加負偏壓，在靶面全部表面形成高密度電流，靶材得到均勻的刻蝕，相對于常規磁控濺射，減少了靶中毒的現象，同時對非金屬薄膜提高了沉積速率。同時可在靶材上施加直流偏壓，用于濺射絕緣靶材。
主要特點
? 采用全進口磁控電源，提升控制準確度；
? 等離子能量和密度可單獨控制，；
? 觸摸式顯示屏集中控制，濺射過程控制一目了然；
? 內置100石墨加熱器，使基片溫度更加均勻，從而獲得更佳的濺射效果；
? 使用高密度等離子體對基片進行清洗；
公司加工設備展示：
公司證書展示：
型 號 | 靶頭數量 | 爐膛尺寸 （mm) | 外形尺寸（mm） | 功 率 (AC380V) | 重 量 Kg(約） | ||
長 | 高 | 深 | |||||
NBD-PEJ-1200-50ITG3Z | 3或6 | 500*500*500 | 2200 | 1900 | 1300 | 5kw | 400 |
* 更多型號，歡迎來電垂詢 | |||||||
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