Laser?graphic?direct?writing?equipment?saves?tedious?Mask?processing?steps?and?provides?rapid,?efficient?and?lowcost?optical?engraving?process?solutions.?Especially?for?users?who?have?the?external?coordination?requirements?of?photoengraving?Mask,?they?can?make?their?own?corresponding?masks?to?reduce?costs?or?improve?the?development?speed?requirements.This?product?USES?high?power?semiconductor?laser?light?source,?long?life?and?low?power?consumption;User?interface?friendly?and?flexible,?support?a?variety?of?layout?design?format;Can?be?based?on?their?own?needs,?convenient?and?flexible?choice?of?different?projection?multiplier?to?achieve?a?variety?of?modes?of?exposure.Can?be?applied?to?350nm?node?noncritical?layer?mask?in?large?scale?IC?production?version?to?the?direct?write?lithography?and?0.8m?node?device.
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