常壓等離子清洗機又稱常壓射流等離子處理機，即在普通大氣的環境下進行等離子清洗。大氣等離子清洗機由等離子發生器、氣體輸送管及等離子處理工作站等部分組成。等離子發生器產生高壓高頻能量在噴頭鋼管中被激活和被控制的輝光放電中產生了低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面，當等離子體與被處理物體表面相遇時，產生了化學作用和物理變化，表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油脂、輔助添加劑等，根據材料成分，其表面分子鏈結構得到了改變。建立了羥基、羧基等自由基團，這些基團對各種涂敷材料具有促進其粘合的作用，在粘合和油漆應用時得到了優化。在同樣效果下，應用等離子體處理表面可以得到非常薄的高張力涂層表面，不需其他機械、化學處理等任何強烈作用成分來增加粘合性。

真空等離子清洗機由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統、充氣系統、自動控制系統等部分組成。工作基本原理是利用真空泵將工作室進行抽真空達到30-50Pa 的真空度，再在高頻發生器交變電場的作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質第四態），其顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發出從藍色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。活性等離子對被清洗物進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質，經過抽真空排出，從而達到清洗目的，并且得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性 。真空等離子清洗機所有的參數均同電腦設置和數據記錄，是自動化程度高，具有高精度的控制裝置。

 大氣常壓等離子清洗設備，如今應用較多的就是手機行業---手機玻璃表面活化處理，底板點膠前處理，封裝前端處理，手機殼表面噴漆前活化處理等等。一般的手機工廠每日幾千到幾萬的產能，就必須要有快速高效的活化處理工藝，大氣等離子清洗機就是為此而生的。無論配合在三軸平臺，傳輸機還是裝在整條流水線上，大氣等離子清洗機都能快速使被處理材料其中一個表面達到很好的活化效果。

真空等離子清洗機它是以其高性能，高質量，還有過硬的品質，以及安全的產品為特點，處理效果比較精密，很多的產品它本身的材質問題，所以不能使用像大氣等離子設備那樣的溫度相對來說比較高一點的等離子設備，這樣的時候可以選擇真空等離子設備。

簡爾言之：大氣常壓等離子清洗機快速量產，真等離子清洗機的技術比較精密廣泛    其中區別詳細如下    一、由于常壓等離子的噴嘴中是直噴出的離子，這種情況由噴嘴的結構間接的改變了離子的運動方向（直接面對被處理材料）。從而使大氣等離子在流水線上只能處理一個表面，這也是與真空等離子清洗明顯的區別之一。真空等離子清洗機在工作中，腔體內部的離子是不定向的，只要材料在腔體裸露出的部分，不管是哪個面哪個角落都可以清洗得到。

 二、在使用氣體方面，大氣常壓等離子清洗機工作時只需要接入壓縮空氣，當然想效果更好直接接入氮氣。而真空型等離子清洗機在氣體上會有更多的選擇，并且可以選擇多種氣體進行匹配對材料表面氧化物、納米級別微生物的去除有著極強的改善。在這里要強調的是：大氣型通入氣體的目的主要是為了活化，侵潤性增強。而真空型通入氣體的目的是為了增強蝕刻效果，去除污染物，去除有機物，侵潤性增強等。顯然氣體的選擇范圍更廣，真空等離子清洗的工藝會應用得更為廣泛。

三、離子產生條件，這個比較直觀的就可以看出，大氣型等離子處理設備依賴接入氣體，氣體壓力要達到0.2mpa左右才可以產生離子。而真空型則依賴于真空泵，產生離子之前，即使不接入任何外接氣體，要將腔體內部的真空度抽到25pa以下才能產生離子。

四、溫度。大氣等離子清洗機雖然處理材料幾秒之后的溫度在60°-75°左右，但這個數據是按照噴槍距離材料15mm，功率在500W，配合在三軸速度為120mm/s來測的。當然功率，接觸時間，處理的高度都會對溫度有所影響。特別注意的是：大氣等離子清洗機噴槍工作時的噴出的“火焰”分為內焰和外焰，我們清洗時都是拿外焰去洗，內焰在噴嘴里面，從外面是看不到的。但是如果在噴出“火焰”的情況下長時間對著某一個點不運動進行處理很容易對表面產生灼燒。所以大氣等離子處理機的溫度要在實際工況下才能測得具體數值。    而真空型等離子清洗機就沒那么復雜，按電源頻率劃分，40KHz和13.56MHz為例：通常情況下材料放入腔體內工作，頻率為40KHz一般溫度為65°以下，再者機器內部裝有強冷風扇，處理時間不長的話，材料表面溫度都會跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會更低，通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發生形變的材料，低溫真空型等離子清洗機的是在再適合不過了。