聚合物筆無掩模光刻納米制造系統（polymer pen lithography）聚合物筆納米無掩模光刻制造系統PPL, 使用可達160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無需光掩膜，且在平方厘米范圍內達到200納米以下的分辨率，可應用于納米粒子合成，蛋白陣列，單細胞排布，納米電路構造、生物芯片、化學檢測、微尺度催化反應、分子馬達等領域。此設備在國際上屬于**基于聚合物筆光刻(PPL)技術的納米制造系統，PPL技術是美國Tera-print公司獨有的技術。
產品概述和特點
主要特點
- 高分辨率，可達低于100nm的分辨率；
- 高通量模式，可達160000針尖輸出制作結構；
- TERA-FAB M系列可制作厘米級材料尺寸；
- 無需掩模，即時性改變輸出機構，可廣泛適應軟質和硬質材料；
- 軟硬件友好，非專業人士可在幾小時培訓后，熟練使用。
A）一張4英寸的PPL陣列，有1100萬支筆尖。
B）陣列內納米尺度彈性材料**的掃描電子顯微照片及內嵌圖像；
C）由PPL技術打印的多種蛋白示意圖。各針尖陣列蘸上不同的打印墨水（蛋白）；
D）熒光光學顯微圖的結果，PPL合成了多路熒光標記蛋白的圖案。
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