centrotherm Activator 150 高溫爐生產線專為硅-碳化合物（SiC）或鎵-氮化合物（GaN） 設備的后植入燒結而設計開發。Activator 150 可用于多種類型爐體， 如研發爐和批量生產爐， 且處理靈活性高。centrotherm 的無金屬加熱裝置的獨特設計允許處理溫度高達 1850 °C 同時縮短了工藝循環時間。由于占據空間小、購置成本低，所以 Activator 150 可實現生產具有成本效益。
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特點：
高活化率
表面粗糙程度最小
溫度*達 1850°C
批量規模高達 50硅片（150mm）
加熱率*達 150 K/min
通過SiH4可實現硅“過壓
Oxidator150-高溫氧化爐
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Oxidator 150 高溫爐由 centrotherm thermal solutions 設計開發，專門用于硅-碳化合物（SiC）的氧化處理。設備*可承受 1400°C 的工藝溫度，氧化工藝使用 O2、N2O、NO、NO2 或濕法氧化氣體，靈活性和工藝質量**。
Oxidator 150 裝有非金屬加熱裝置和雙真空，是當前市場上最安全的毒性氣體氧化爐。
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技術參數：?
批量處理 2“、3“、100 mm 和 150 mm 硅片或任何其它組合
*加熱率可達 7.5 K/min
批量規模高達 50片硅片（150 mm）
工藝壓力：850 mbar 至常壓下
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