?抗氫氟酸膠帶是以聚酯薄膜為基材，涂布特殊丙烯酸膠制作而成的光學保護膜，是專為晶圓蝕刻制程及二次強化而設計制造的耐酸保護膜。在PET或PO基材上涂布低粘著之壓克力黏膠而成,保護晶圓在蝕刻過程中耐氫氟酸及鹽酸等，不被腐蝕、不起泡脫落,也不會把線路涂料拔起。符合RoHS及無鹵要求.應用于集成電路( I C)和超大規模集成電路 (VLSI)芯片的清洗和腐蝕,是微電子行業制作過程中的關鍵性基礎化工材料之一,還可用作分析試劑和制備高純度的含氟化學品。目前,在國內基本上是作為蝕刻劑和清洗劑用于微電子行業 ,其他方面用量較少。
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